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Hellma氟化鈣晶體 CaF?窗口片激光光學元件
  • 產品型號:104-002-10-40
  • 廠商性質:經銷商
  • 更新時間:2026-09-01
  • 訪  問  量:262
簡要描述:

Hellma氟化鈣晶體 CaF?窗口片激光光學元件
  德國Hellma(豪瑪)氟化鈣CaF?單晶,德國耶拿基地坩堝下降法自主生長,高純99.999%+原料,雜質<1ppm,透光覆蓋130nm?9μm(真空紫外到中紅外),是半導體DUV光刻、高功率準分子激光、航天空間光學、FTIR紅外光譜、拉曼檢測的核心光學基材。

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產品詳情

Hellma氟化鈣晶體 CaF?窗口片激光光學元件

  德國Hellma(豪瑪)氟化鈣CaF?單晶,德國耶拿基地坩堝下降法自主生長,高純99.999%+原料,雜質<1ppm,透光覆蓋130nm?9μm(真空紫外到中紅外),是半導體DUV光刻、高功率準分子激光、航天空間光學、FTIR紅外光譜、拉曼檢測的核心光學基材。

Hellma氟化鈣晶體 CaF?窗口片激光光學元件

  完整工藝鏈:晶體生長?高溫退火?切割?研磨?超精密拋光;每批次提供原廠檢測證書,包含純度、光學均勻性、LIDT激光損傷閾值、應力雙折射檢測報告,數據可溯源PTB德國計量院。

  ?核心優勢

  1.超寬光譜透過:130nm深紫外即可高透過,193nm內部透過率>99.6%/cm;中紅外2?7μm透過穩定>90%,彌補石英無法到達中紅外波段短板。

  2.極低色散,消色差能力強:阿貝數νd=95.23,顯著降低光學系統色差,大幅提升成像、光譜檢測精度Hellma。

  3.低應力雙折射:退火工藝優化,應力雙折射≤0.5?nm/cm,折射率均勻性<5ppm,減少成像畸變,適配光刻等高精度場景。

  4.高激光耐久性能:低非線性折射率,高激光損傷閾值,適配193/248nm準分子激光,長期高能量輻照不易老化,延長元件壽命Hellma.。

  5.大尺寸供貨:單晶最大φ250mm;多晶毛坯最大φ440mm;厚度最大150mm;晶向支持標準<111>,可定制<100>等特殊晶向。

  6.耐輻照穩定:抗電離輻射,適合太空、航天載荷等嚴苛環境;低熒光,光譜測試背景干擾極低。

Hellma氟化鈣晶體 CaF?窗口片激光光學元件

  典型應用場景

  ?半導體光刻:193nm/248nmDUV光刻物鏡、照明系統、準分子激光諧振腔窗口,芯片制程光學核心坯料

  ?高功率激光:準分子激光窗口、光束傳輸元件、真空腔窗口、醫用激光光學組件

  ?航天天文光學:空間望遠鏡、衛星載荷光學窗口,太空輻照環境穩定工作

  ?分析儀器:FTIR傅里葉紅外光譜、拉曼光譜儀、紫外分光光度計光學窗口

  ?真空設備:真空紫外窗口、特種工況觀察窗口

  可提供供貨形態

  1.晶體毛坯(精磨毛坯,可客戶二次加工)

  2.拋光窗口片、棱鏡坯料

  3.支持超精密加工:Ra≤0.3nm超精拋光、楔角、特殊外形

  4.配套可選:增透膜AR、抗激光損傷鍍膜方案技術支持

  Q:Hellma氟化鈣和普通國產CaF?核心差異?

  A:Hellma自主晶體生長,高純原料,嚴格退火,應力雙折射、深紫外透過、激光耐久指標控制嚴苛,每批帶全套檢測證書,適配光刻、航天等高可靠性要求場景。

  Q:可以提供哪些晶向?

  A:標準<111>;可定制<100>以及其他特殊晶體取向。

  Q:最大可以做到多大尺寸?

  A:單晶最大φ250mm;多晶毛坯最大φ440mm

Hellma氟化鈣晶體 CaF?窗口片激光光學元件

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