Hellma氟化鈣CaF?精密光學(xué)晶體

　　德國Hellma作為百年光學(xué)材料品牌，依托耶拿頂尖光學(xué)技術(shù)積淀，打造的高純氟化鈣CaF?單晶晶體，是當(dāng)前高精密光學(xué)、半導(dǎo)體光刻、激光科研領(lǐng)域的核心基材，憑借的光學(xué)性能與穩(wěn)定品質(zhì)，成為行業(yè)應(yīng)用的材料。

　　該氟化鈣晶體采用高純原料自主生長，搭配精密高溫退火工藝，擁有130nm–9μm超寬光譜透過范圍，覆蓋真空紫外、可見光至中紅外波段，彌補石英光學(xué)材料的波段短板。產(chǎn)品具備極低色散特性，可有效消除光學(xué)系統(tǒng)色差，同時應(yīng)力雙折射數(shù)值極低、光學(xué)均勻性優(yōu)異，從根源提升成像與檢測精度，適配各類高精度光學(xué)設(shè)備嚴(yán)苛工況。

　　在核心性能上，Hellma氟化鈣擁有超高激光損傷閾值與低非線性折射率，抗激光輻照、耐老化，可長期穩(wěn)定適配193nm、248nm準(zhǔn)分子激光等高功率激光場景。同時具備優(yōu)異的抗電離輻射、低熒光特性，光譜檢測無干擾，環(huán)境適應(yīng)性，可滿足航天空間、真空科研等特殊嚴(yán)苛場景使用需求。

　　產(chǎn)品規(guī)格齊全，支持大尺寸毛坯及定制加工，標(biāo)準(zhǔn)晶向成熟，可按需定制特殊晶向、超精拋光及鍍膜處理，供貨形態(tài)涵蓋晶體毛坯、精密窗口片、光學(xué)坯料等，適配多元化加工與應(yīng)用需求。依托出眾的綜合性能，該材料已落地多個精密領(lǐng)域?qū)嵕皯?yīng)用：半導(dǎo)體行業(yè)中，廣泛用于193nm/248nmDUV光刻設(shè)備的物鏡模組與準(zhǔn)分子激光諧振腔窗口，保障芯片光刻制程的高精度穩(wěn)定性；精密檢測領(lǐng)域，適配FTIR傅里葉紅外光譜儀、紫外拉曼檢測儀核心光學(xué)窗口，規(guī)避熒光干擾，提升檢測數(shù)據(jù)精準(zhǔn)度；激光工業(yè)場景，多用于高功率準(zhǔn)分子激光設(shè)備、醫(yī)用激光診療設(shè)備的透光元件，耐受長期高能輻照；同時批量應(yīng)用于航天衛(wèi)星載荷光學(xué)窗口、真空科研設(shè)備、天文觀測儀器等嚴(yán)苛工況場景。憑借全場景適配能力，成為國內(nèi)外精密光學(xué)項目的氟化鈣基材。

　　核心優(yōu)勢

　　1.超寬光譜透過：130nm深紫外即可高透過，193nm內(nèi)部透過率＞99.6%/cm；中紅外2?7μm透過穩(wěn)定＞90%，彌補石英無法到達(dá)中紅外波段短板。

　　2.極低色散，消色差能力強：阿貝數(shù)νd=95.23，顯著降低光學(xué)系統(tǒng)色差，大幅提升成像、光譜檢測精度Hellma。

　　3.低應(yīng)力雙折射：退火工藝優(yōu)化，應(yīng)力雙折射≤0.5?nm/cm，折射率均勻性＜5ppm，減少成像畸變，適配光刻等高精度場景。

　　4.高激光耐久性能：低非線性折射率，高激光損傷閾值，適配193/248nm準(zhǔn)分子激光，長期高能量輻照不易老化，延長元件壽命Hellma

Hellma氟化鈣CaF?精密光學(xué)晶體